HNF nimmt Fotolack-Cluster RCD-8 in Betrieb

Die HNF verbessert ihre Fotolack-Technologie mit dem RCD8 Resist Lab Cluster der Firma Süss Microtec bei viereckigen Proben und bei Viertel- oder halben Wafern.

Der Cluster besteht aus zwei Heizplattenmodulen (HPM) und einem Dampfprimerplattenmodul (VPM) für die Lackvor- und -nachbehandlung sowie dem Spin-Coater-Modul RCD8 selbst und kann Proben mit einem Durchmesser von 5 mm bis zu 200 mm bearbeiten. Er ist mit einem Lösemitteldosiermodul ausgestattet, das bei runden Proben die Resistentfernung vom Rand ermöglicht.

Die große Bandbreite an Probengrößen und -formen wird durch verschiedene Spannfuttersätze für unterschiedliche Probengrößen ermöglicht. Ein wichtiges Merkmal ist die GYRSET-Option. Der GYRSET-Effekt verhindert bei quadratischen Proben oder z. B. Viertelwafern die Bildung des Lackrandes an den Ecken, so dass die effektive Fläche der Probe zunimmt. Zudem ermöglicht er bei Beschichtungsproben mit großer Oberflächentopologie eine gute Abdeckung der Strukturen auch auf der Außenseite der Struktur. Diese Außenseite wird beim Spin-Coating normalerweise von der Struktur selbst abgeschattet und daher nicht homogen vom Lack bedeckt.

Die angrenzende Nassbank ist für lösungsmittelbasierte Prozesse wie die Probenreinigung vor der Beschichtung und die Entwicklung mit lösungsmittelbasierten Entwicklern ausgelegt.

Die Anlage wird im Servicemodus betrieben. Bitte kontaktieren Sie die Nassbankgruppe für Unterstützung.